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產(chǎn)品中心

Product Center

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  • 原位拉伸臺
    原位拉伸臺

    為了滿(mǎn)足現代材料研究的挑戰,Swift開(kāi)發(fā)了一系列*可定制的原位拉伸試樣臺。這些拉伸試樣臺適合多種顯微觀(guān)測系統,比如掃描電鏡、透射電鏡、光學(xué)顯微鏡、共聚焦顯微鏡等。支持EBSD,樣品加熱和冷卻,可實(shí)現...

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  • Alpha-Step臺階儀
    Alpha-Step臺階儀

    Alpha-Step D-300/500 探針式輪廓儀支持臺階高度、粗糙度、翹曲度和應力的2D 測量。Alpha-Step臺階儀光學(xué)杠桿傳感器技術(shù)提供高分辨率測量,大垂直范圍和低觸力測量功能。 ...

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  • 三維光學(xué)輪廓儀
    三維光學(xué)輪廓儀

    非接觸式優(yōu)點(diǎn)就是測量裝置探測部分不與被測表面的直接接觸,保護了測量裝置,同時(shí)避免了與測量裝置直接接觸引入的測量誤差。Zeta-20三維光學(xué)輪廓儀集成了六種光學(xué)計量技術(shù)。 ZDot 測量模式同時(shí)采集高分...

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  • 經(jīng)濟三維光學(xué)輪廓儀 可測樣
    經(jīng)濟三維光學(xué)輪廓儀 可測樣

    Profilm 3D是一款兼具垂直掃描干涉 (VSI)和高精確度相移干涉 (PSI) 技術(shù)的經(jīng)濟三維光學(xué)輪廓儀,其可以用于多種用途的高精度表面測量。我司有此機器可測樣。

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  • 高精度臺式納米壓痕儀
    高精度臺式納米壓痕儀

    iNano高精度臺式納米壓痕儀是一種緊湊,用戶(hù)友好的納米機械測量系統,設計用于硬涂層,薄膜和少量材料。該系統旨在進(jìn)行準確,可重復的納米級機械測試,包括壓痕,硬度,劃痕和通用納米級測試。iNano具有很...

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  • 光學(xué)表面缺陷分析儀
    光學(xué)表面缺陷分析儀

    Lumina AT1光學(xué)表面缺陷分析儀可對玻璃、半導體及光電子材料進(jìn)行表面檢測。Lumina AT1既能夠檢測SiC、GaN、藍寶石和玻璃等透明材料,又能對Si、砷化鎵、磷化銦等不透明基板進(jìn)行檢測,其...

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  • 方阻測試儀
    方阻測試儀

    Filmetrics R50 是KLA電阻測試家族的最新產(chǎn)品。R50方阻測試儀是KLA超45年電阻測量技術(shù)地位之作。電阻測量和監控對于任何使用導電薄膜的行業(yè)都至關(guān)重要,從半導體制造到可穿戴技術(shù)所需的柔...

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  • 高精度原子力顯微鏡
    高精度原子力顯微鏡

    高精度原子力顯微鏡 ParkNX10為您帶來(lái)納米級分辨率的數據,值得您信賴(lài)、使用和擁有。 在SmartScanAuto有的智能模式下,系統自動(dòng)執行所有必要的成像操作,同時(shí)智能選擇好的圖像質(zhì)量和掃描...

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  • 原位納米力學(xué)測試系統
    原位納米力學(xué)測試系統

    Nano Indenter® G200原位納米力學(xué)測試系統是一種準確,靈活,使用方便的納米級機械測試儀器。 G200 測量楊氏模量和硬度,包括從納米到毫米的六個(gè)數量級的形變測量。 可測量聚合...

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  • 表面等離子共振顯微鏡
    表面等離子共振顯微鏡

    SPRm200 表面等離子共振顯微鏡 工作原理基于表面等離子共振(SPR)技術(shù)。是世界上1st臺將表面等離子體共振技術(shù)和光學(xué)顯微鏡巧妙結合為一體的生物傳感檢測儀。

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  • TEM氮化硅薄膜窗口
    TEM氮化硅薄膜窗口

    與X射線(xiàn)用氮化硅窗口類(lèi)似,透射電鏡(TEM)用氮化硅薄膜窗口也使用低應力氮化硅薄膜基底。但整體尺度更小,適合TEM裝樣的要求。窗口有單窗口和多窗口陣列等不同規格。同時(shí)SHNTI也定制多孔氮化硅薄膜窗口...

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  • 納米壓印膠
    納米壓印膠

    公司擁有齊全的納米系列壓印膠材料,熱壓型納米壓印膠、熱塑型、紫外光固化型、紫外光固化納米壓印和光刻兩用膠、舉離型傳遞層材料、刻蝕型傳遞層材料、各種與納米壓印技術(shù)相關(guān)的化學(xué)藥品,如模板防粘劑、基片增粘劑...

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  • 陣列式壓力傳感系統
    陣列式壓力傳感系統

    陣列式壓力傳感系統通過(guò)由前端柔性陣列式微機電壓力感測器及后端軟件界面組成,前端傳感器依所承受壓力呈現線(xiàn)性反應變化,壓力越大則電導越高,再由后端軟件將接觸面壓力分布實(shí)時(shí)呈現并記錄,協(xié)助設備進(jìn)行有效調整校...

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  • 碳化硅SiC長(cháng)晶設備
    碳化硅SiC長(cháng)晶設備

    碳化硅SiC長(cháng)晶設備是實(shí)現高質(zhì)量SiC晶體生長(cháng)、高純度原料合成、高溫晶體熱處理的專(zhuān)業(yè)設備。廣泛應用于SiC晶體生長(cháng)、原料合成、晶體熱處理領(lǐng)域??梢陨L(cháng)6/8英寸的晶錠。

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  • MPCVD金剛石長(cháng)晶設備
    MPCVD金剛石長(cháng)晶設備

    MPCVD金剛石長(cháng)晶設備Intelligent MPCVD Dimond Growth System (IMD)系列金剛石晶體生長(cháng)系統,是實(shí)現高質(zhì)量金剛石晶體生長(cháng)、高純度晶體薄膜沉積、高溫晶體熱處理的...

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  • Desk V 鍍膜機
    Desk V 鍍膜機

    Desk V 鍍膜機使用一個(gè)2英寸的陰極進(jìn)行濺射,由一個(gè)最大輸出為100毫安的直流電源驅動(dòng)。使用傾斜/旋轉臺來(lái)實(shí)現好的樣品覆蓋,特別是在粗糙的表面。Desk V還可以在沉積前用蝕刻臺和快門(mén)對樣品進(jìn)行預...

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  • 全自動(dòng)步進(jìn)重復式激光干涉光刻機
    全自動(dòng)步進(jìn)重復式激光干涉光刻機

    全自動(dòng)步進(jìn)重復式激光干涉光刻機VIL 1000納米光刻系統具有全自動(dòng)光路重構、動(dòng)態(tài)鎖相、高精度步進(jìn)重復曝光等強大功 能。在放置旋涂好光刻膠的 晶圓后,無(wú)需任何手動(dòng)設置或調整,我們的自動(dòng)化系統可以在2 ...

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  • 激光干涉光刻機
    激光干涉光刻機

    激光干涉光刻機----HIL系列激光干涉納米光刻機具有突破性的強大功能,只需要單次曝光即可在幾分鐘內制備大面積周期性納米結構。其最小特征尺寸可以低于50納米。該系統是制作高品質(zhì)、晶圓級的納米壓印模板和...

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  • 低溫強磁場(chǎng)共聚焦樣品桿
    低溫強磁場(chǎng)共聚焦樣品桿

    低溫強磁場(chǎng)共聚焦樣品桿物性表征-低溫光學(xué)?低溫強磁場(chǎng)環(huán)境下的共聚焦拉曼、熒光、MOKE、掃描成像測試

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  • 低振動(dòng)光學(xué)型恒溫器
    低振動(dòng)光學(xué)型恒溫器

    低振動(dòng)光學(xué)型恒溫器。超低振動(dòng), 低溫拉曼、 熒光、 紅外、 太赫茲、 MOKE及低溫物性測試

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  • 無(wú)液氨低振動(dòng)低溫磁場(chǎng)測試系統
    無(wú)液氨低振動(dòng)低溫磁場(chǎng)測試系統

    無(wú)液氨低振動(dòng)低溫磁場(chǎng)測試系統.萬(wàn)物”皆可轉-多種物性測量轉角測試。多種測試選件如電學(xué)、磁學(xué)、熱學(xué)、光學(xué)。溫度范圍4.2 K -325 K,最大磁場(chǎng)1T/3T/5T可選·頂部插桿式(Toplo...

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  • VIL1000激光干涉光刻機
    VIL1000激光干涉光刻機

    VIL1000激光干涉光刻機 VIL系列納米圖形系統(激光干涉光刻機)具有快速可重構光束傳輸、主動(dòng)圖形穩定和精確樣品定位等強大功能。該系統可以通過(guò)使用標準2cm×2cm正方形或用戶(hù)定義形狀的...

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