<object id="yiamm"><wbr id="yiamm"></wbr></object>
<sup id="yiamm"></sup>
<sup id="yiamm"><noscript id="yiamm"></noscript></sup>
<sup id="yiamm"><noscript id="yiamm"></noscript></sup>

產(chǎn)品中心

Product Center

當前位置:首頁(yè)產(chǎn)品中心激光干涉光刻機

激光干涉光刻機

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

激光干涉光刻機----HIL系列激光干涉納米光刻機具有突破性的強大功能,只需
要單次曝光即可在幾分鐘內制備大面積周期性納米結構。其
最小特征尺寸可以低于50納米。該系統是制作高品質(zhì)、晶圓
級的納米壓印模板和納米結構器件的理想選擇。

產(chǎn)品型號:
更新時(shí)間:2024-06-17
廠(chǎng)商性質(zhì):代理商
訪(fǎng)問(wèn)量:697
品牌其他品牌

激光干涉光刻機

激光干涉光刻機

 HIL系列激光干涉納米光刻機具有突破性的強大功能,只需 要單次曝光即可在幾分鐘內制備大面積周期性納米結構。其 最小特征尺寸可以低于50納米。該系統是制作高品質(zhì)、晶圓 級的納米壓印模板和納米結構器件的理想選擇。


最小線(xiàn)寬低于50納米

多種一維/二維納米圖案

單次曝光實(shí)現晶圓級納米結構


HIL 1000納米光刻系統非常適用于高質(zhì)量晶圓級納米壓印模板的制作,能滿(mǎn) 足各種研發(fā)和量產(chǎn)的需求。同時(shí),該系統在基于大面積納米結構的器件設計開(kāi) 發(fā),尤其是在設計參數到試產(chǎn)驗證的快速迭代環(huán)節中能發(fā)揮巨大的作用。


可選配特征尺寸調制模塊:對特征尺寸進(jìn)行可定制化的空間調制,可用于提 高結構尺寸均勻性或根據設計要求調節尺寸變化。


圓晶級曝光 標準配置的 HIL 1000 系統可以通過(guò)一次曝光實(shí)現在 3 英寸晶圓上 制造均勻的周期性納米結構。通過(guò)選配升級,增加特征尺寸調制模 還可以將曝光區域的最大面積擴展到 4 英寸,同時(shí)具備更好的線(xiàn) 寬均勻性。

高分辨率納米圖案 HIL 1000 系統能制備特征尺寸低于 50 nm 的納米結構。其加工出 的超高深寬比的光刻膠矩形截面非常有助于后續的刻蝕和沉積等加 工工藝。

快速光路重構 HIL 1000 系統配備的快速光路重構模塊和高精度工件臺有助于制 造具有不同周期和幾何形狀的納米圖案,包括一維線(xiàn)柵和納米點(diǎn)、 孔、棒、棋盤(pán)格等二維陣列。

特征尺寸調制 HIL 1000 系統可以選配特征尺寸調制模塊。該模塊通過(guò)精密調制 納米結構的占空比,可提高單次曝光區域內的納米圖案均勻性,擴 大單次曝光的區域,同時(shí)也可用于實(shí)現特定設計的特征尺寸的晶圓 級空間調制。


激光干涉光刻(也稱(chēng)全息光刻)是一種無(wú)需掩膜的光刻技術(shù), 可以實(shí)現以高通量的方式大面積制造周期性納米結構。 在傳 統的干涉光刻系統的配置中,相干光源通常被分成兩個(gè)子光 束,并以一定角度形成干涉條紋,通過(guò)投射到涂有光刻膠的 晶圓表面來(lái)制造周期性納米結構。干涉圖案的周期可由公式  ?=λ/2sinθ 推算,其中 λ 是光源的波長(cháng),θ 是兩個(gè)子光束形 成的夾角的一半。

23965.jpg



在線(xiàn)留言

留言框

  • 產(chǎn)品:

  • 您的單位:

  • 您的姓名:

  • 聯(lián)系電話(huà):

  • 常用郵箱:

  • 省份:

  • 詳細地址:

  • 補充說(shuō)明:

  • 驗證碼:

    請輸入計算結果(填寫(xiě)阿拉伯數字),如:三加四=7
av一本久道久久综合久久鬼色_青青草手机视频国产在线观看_男女作爱免费网站_东京热人妻系列无码专区