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當前位置:首頁(yè)產(chǎn)品中心光學(xué)表面缺陷分析儀Lumina光學(xué)表面缺陷分析儀

光學(xué)表面缺陷分析儀

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

Lumina AT1光學(xué)表面缺陷分析儀可對玻璃、半導體及光電子材料進(jìn)行表面檢測。Lumina AT1既能夠檢測SiC、GaN、藍寶石和玻璃等透明材料,又能對Si、砷化鎵、磷化銦等不透明基板進(jìn)行檢測,其價(jià)格優(yōu)勢使其成為適合于研發(fā)/小批量生產(chǎn)過(guò)程中品質(zhì)管理及良率改善的有力工具。

產(chǎn)品型號:Lumina
更新時(shí)間:2024-06-17
廠(chǎng)商性質(zhì):代理商
訪(fǎng)問(wèn)量:2494

product

產(chǎn)品分類(lèi)

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應用領(lǐng)域醫療衛生,化工,電子,汽車(chē),電氣

一、光學(xué)表面缺陷分析儀簡(jiǎn)介:

Lumina AT1光學(xué)表面缺陷分析儀可對玻璃、半導體及光電子材料進(jìn)行表面檢測。Lumina AT1既能夠檢測SiC、GaN、藍寶石和玻璃等透明材料,又能對Si、砷化鎵、磷化銦等不透明基板進(jìn)行檢測,其價(jià)格優(yōu)勢使其成為適合于研發(fā)/小批量生產(chǎn)過(guò)程中品質(zhì)管理及良率改善的有力工具。

Lumina AT1結合散射測量、橢圓偏光、反射測量與表面斜率等基本原理,以非破環(huán)性方式對Wafer表面的殘留異物,表面與表面下缺陷,形狀變化和薄膜厚度的均勻性進(jìn)行檢測。

1.偏振通道用于薄膜、劃痕和應力點(diǎn);

2.坡度通道用于凹坑、凸起;

3.反射通道用于粗糙表面的顆粒;

4.暗場(chǎng)通道用于微粒和劃痕;

二、功能:

l 主要功能

1. 缺陷檢測與分類(lèi)

2. 缺陷分析

3. 薄膜均一性測量

4. 表面粗糙度測量

5. 薄膜應力檢測

l 技術(shù)特點(diǎn)

1.透明、半透明和不透明的材料均可測量,比如硅、化合物半導體或金屬基底;

2.實(shí)現亞納米的薄膜涂層、納米顆粒、劃痕、凹坑、凸起、應力點(diǎn)和其他缺陷的全表面掃描和成像;

3.150mm晶圓全表面掃描的掃描時(shí)間為3分鐘,50x50mm樣品30秒內可完成掃描并顯示結果;

4.高抗震性能,系統不旋轉,形狀無(wú)關(guān),可容納非圓形和易碎的基底材料;

5.高達300x300mm的掃描區域;可定位缺陷,以便進(jìn)一步分析;技術(shù)能力

三、應用案例

1. 透明/非透明材質(zhì)表面缺陷檢測

2. MOCVD外延生長(cháng)成膜缺陷管控

3. PR膜厚均一性評價(jià)

4. Clean制程清洗效果評價(jià)

5. Wafer在CMP后表面缺陷分析

6. 多個(gè)應用領(lǐng)域,如AR/VR、Glass、光掩模版、藍寶石、Si wafer等





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